QC 术语定义和说明

术语

缩写

ISM02.1 定义/说明

200.7（修订版 4.4 EMMC 版）定义/说明

SW 486（和/或 6010C 修订版 3）定义/说明

准确度

-

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观测值与接受的参考值之间的一致程度。应用于一组观测值时，准确度是随机分量和共同分量的组合

等分试样

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用于样品分析和/或制备的实际样品、标准品或溶液的实测部分。

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分析日期/时间

将样品、标准品或空白引入分析系统的日期和军用时间（24 小时制）。

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分析物

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分析旨在测定的元素或离子；目标元素。

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分析物添加测试

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请参见消解后加标 (PDS)。

一种分析物标准品，其加入一部分制备好的样品或其稀释液中，回收率应处于已知值的 85% 至 115% 之间。
分析物添加的最低浓度应为方法检测限的 20 倍，且最高为检测限的 100 倍。
如果分析物添加的浓度小于样品分析物浓度的 20%，则应使用以下稀释测试。
如果分析物的回收率不在指定的范围内，则应考虑是否存在基质效应，并相应地标记相关数据。
添加方法或使用适当的内标元素可提供更准确的数据。

请参见消解后加标 (PDS)。

分析方法

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指定样品制备、仪器校准、样品分析和结果计算的程序。

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分析参比标准品

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从私营化学品供应公司购买的标准品，用于配制校准标样和 CCV 标准品。

请参见储备（标准）溶液。

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分析样品

-

引入执行分析的仪器中的任何溶液/介质，不包括：ICV；ICB；CCV；CCB 和调谐样品。
以下所有项目均被定义为分析样品：未稀释和稀释的样品；基质加标样品；重复样品；连续稀释样品；消解后加标样品；干扰校验样品 (ICS)、实验室质控样品 (LCS)；性能评估 (PE) 样品和制备的空白样品。

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背景校正

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在测定痕量元素时对仪器信号的可变背景贡献进行补偿的技术。

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批处理

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在相同的位置使用相同的方法同时制备一组样品。

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采用的取样或测试程序类似并作为一个单元进行处理的一组样品。出于 QC 目的，如果一组样品的数量大于 20，则样品数量为 20 或更少的各组样品将全部作为一个单独的批次进行处理。

偏差

-

-

-

由于基质效应，实测值与已知加标含量之间的偏差。
可通过比较实测值与已知浓度的样品的接受的参考值，或通过测定加入样品中的已知含量的污染物（基质加标）的回收率来评估偏差。

空白



 

-

一种分析样品，其中所含目标物质的量可忽略不计或无法测量。
空白旨在评估特定的污染源。
空白的类型包括校准空白、制备空白和现场空白。
有关空白的类型，请参见单独的定义。

请参见校准空白、现场试剂空白 (FRB)、实验室试剂空白 (LRB)。

请参见校正空白、方法空白。

校正

-

一组操作，用于在特定条件下确定测量仪器所指示的值与相应的已知值之间的关系。
必须使用与样品制备中所用的相同类型的试剂或相同浓度的酸来配制校准标样。

请参见校正标样。

请参见校正曲线、校正标样、标准曲线。
 

校正空白

-

一种空白溶液，其中包含所有试剂，且其浓度与分析样品制备中所用溶液的浓度相同（不经 ICP-AES 和 ICP-MS 样品制备）。
校正空白用于验证仪器基线是否稳定以及仪器是否无污染。

一定体积的试剂水，使用与校正标样相同的酸基质进行酸化。
校准空白为零标准品，用于校准 ICP 仪器。

一定体积的试剂水，使用与标样和样品相同量的酸或其他试剂进行制备。

校正曲线

-

请参见校正、校正标样、初始校正。

请参见校正标样。

利用一系列校正标样确定的分析响应与目标分析物浓度之间的函数关系。
通过绘制分析响应与浓度的关系曲线并对数据进行回归分析，可获得校准曲线。

校正标样





 

-

一系列已知标准溶液，供分析人员校准仪器（即，绘制分析曲线）。
此类溶液可能经过也可能不经制备方法处理，但是所含基质与待分析的样品制剂相同。

(CAL) 通过稀释储备标准溶液而制得的溶液。
CAL 溶液用于校准仪器对分析物浓度的响应。

一系列含有已知的各种浓度的目标分析物的溶液，供分析人员校准仪器（即，绘制校准曲线）。

连续校正验证

CCV

由分析人员配制的单参数或多参数标准溶液，用于验证仪器校准随时间推移的稳定性以及仪器在样品分析过程中的性能。
CCV 可以是校正标样之一。
但是，由特定系统测得的所有参数必须体现在该标准品中，并且该标准品必须具有与样品相同的基质（即相同含量的试剂和/或防腐剂）。
CCV 的浓度应处于校准范围的中间，应在样品分析前一天开始时进行分析，并每隔 2 小时分析一次。

请参见仪器性能检测 (IPC) 溶液。

一种包含已知浓度的分析物的溶液，其来源与校准标样相同。
CCV 用于确保每次分析运行过程中的校正准确度。
应按照特定分析方法中的描述对每种分析物运行 CCV。
至少应在运行开始时和最后一个分析样品之后进行分析。
CCV 浓度应处于校准曲线的中间范围水平处或其附近。

合同要求的定量限

CRQL

合同工作说明书 (SOW) 中规定的可接受的最低定量浓度。

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控制限

-

指定的测量结果必须落入的合规范围。

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质控样品

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-

一种引入流程中的 QC 样品，用于监测系统性能。

数据质量目标

DQO

-

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决策者愿意接受的从环境数据获得的结果中的不确定度总体水平的说明。
这在本质上与质量指标（例如，精密度、偏差和检测限）不同。

数据验证




 

-

-

-

根据 DQO 评估可用数据以确保实现目标的过程。
数据验证可能非常严格，也可能很粗略，具体取决于 DQO。
审查的可用数据包括分析结果、现场 QC 数据和实验室 QC 数据，还可能包括现场记录。

日期

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所有报告表的日期格式均为 MM/DD/YYYY。

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天

-

除非另有说明，否则天是指日历日。

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稀释测试

-

请参见系列稀释 (SD)。

如果分析物浓度足够高（至少比原始溶液中仪器检测限高 50 倍，但小于线性限值的 90%），则 1+4 稀释液的分析应（经五倍稀释校正后）在原始测定值的 ±10% 以内。
如果不是，则应考虑存在化学或物理干扰作用，并应相应地标记相关数据。
标准加入法或使用内标元素可提供更准确的样品测试失败数据。

如果分析物浓度足够高（至少比稀释后的定量下限高 10 倍），则 1:5 稀释液的分析应处于原始测定值的 ±10% 以内。
如果不是，则应考虑存在化学或物理干扰作用。

平行样

DUP

第二份等量样品，采取与原始样品相同的处理方法，以便评估精密度。

请参见实验室重复样品（LD1 和 LD2）。

请参见基质平行样。

预计定量限

EQL

-

-

在日常实验室操作条件下，能够在指定的精密度和准确度范围内可靠定量的最低浓度。
EQL 通常为 MDL 的 5 至 10 倍。
但是，可以选择这些指南中的标称值以简化数据报告。
对于许多分析物，选择 EQL 分析物浓度作为校准曲线中最低浓度的非零标准品。
样品 EQL 高度依赖于基质。

现场空白

-

现场提交的确定为空白的任何样品。
现场空白用于检查样品采集、样品运输过程中以及实验室中的交叉污染。
现场空白包括运送空白、冲洗液空白、样品瓶空白、设备空白、防腐剂空白、去污剂空白等。

请参见现场试剂空白 (FRB)。

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现场平行样

-

请参见现场 QC。

-

在尽可能接近同一空间和时间采集收集的单独样品。
它们是从同一来源采集的两个独立样品，单独存储在独立容器中并单独进行分析。
这些重复样品可用于记录采样过程的精密度。

现场 QC

-

现场提交给实验室的任何质量控制 (QC) 样品。
示例包括但不限于现场空白、现场重复样品和现场加标。

请参见现场试剂空白 (FRB)。

请参见现场平行样。

现场试剂空白

FRB

请参见现场空白。

一份等量的试剂水或其他空白基质，放置在实验室的样品容器中，并在各个方面均按样品进行处理，包括运送到采样点、暴露于采样点的条件、储存、保存和所有分析程序。
FRB 的目的在于确定现场环境中是否存在方法分析物或其他干扰物质。

-

现场样品

-

收到的待分析的一部分材料，容纳于一个或多个容器中，并通过唯一的 EPA 样品编号进行标识。

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独立标准品

-

一种由承包商配制的标准溶液，其中包含的分析物与校准标样中所用的分析物来源不同。

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-

电感耦合等离子体-原子（光学）发射光谱

ICP-AES/
ICP-OES

一种用于同时或连续测定溶液中元素的多元素技术。
该方法的基础是利用光谱技术测量原子发射谱线。
特征原子发射谱线通过在射频电感耦合等离子体中激发样品而产生。
 

-

-

初始校正

-

分析一系列不同浓度的分析标准品；用于确定仪器对目标分析物的定量响应、线性和动态范围。

请参见校正标样。

请参见校正曲线、校正标样、标准曲线。

初始校正验证

ICV

由储备标准溶液、金属或盐制得的溶液，其来源与用于配制校准标样的物质的来源不同。
ICV 用于验证校正标样的浓度和仪器校准的充足性。
当 EPA ICV 溶液不可用时，ICV 应可追溯到 NIST 或其他认证的标准品来源。

请参见仪器性能检测 (IPC) 溶液（和/或质量控制样品 (QCS)）。

一种经过认证或单独配制的溶液，其来源不同于校准标样所用的来源，并且用于验证初始校准的准确度。
对于 ICP 分析，应在分析所用的每个波长下在校准曲线中点附近的浓度下运行。

仪器检测限

IDL

-

等于相同波长下连续 10 次重复测量校准空白信号的标准偏差的三倍的分析物信号所对应的浓度。

通常用于金属分析，以评估仪器的噪音水平和目标分析物的响应随时间推移的变化。
在试剂空白溶液的分析中，可以在三个非连续日执行三次分析运行（每天连续测量七次），计算标准偏差的平均值，以此来估算 IDL。
每次测量均应视为测量独立的分析样品。
至少应每三个月测定一次 IDL，或按照特定项目的指定频率进行测定，并将相关文档与仪器日志保存在一起。

仪器性能检测溶液

IPC

-

一种方法分析物溶液，用于根据一组确定的方法标准评估仪器系统的性能。

-

干扰校验样品

ICS

一种包含已知浓度的干扰元素和分析物元素的溶液，可用于验证背景和干扰元素校正因子。
ICS 包含以下溶液：ICS 溶液 A (ICSA) 和 ICS 溶液 AB (ICSAB)。

请参见光谱干扰校验 (SIC) 溶液。

一种包含已知浓度的干扰元素和分析物元素的溶液，可用于在金属 ICP 和 ICP-MS 分析中验证背景和干扰元素校正因子。

干扰校验样品溶液 A

ICSA

仅包含指定浓度以上的干扰物。

请参见光谱干扰校验 (SIC) 溶液。

请参见干扰校验样品 (ICS)。

干扰校验样品溶液 AB

ICSAB

包含分析物与指定浓度的干扰物质的混合物。

请参见光谱干扰校验 (SIC) 溶液。

请参见干扰校验样品 (ICS)。

干扰物质

-

影响目标分析物分析的物质。

-

-

内标

-

在配制后但在分析前以已知浓度加入样品中的非目标元素。
监测仪器对内标的响应是一种评估仪器整体性能的手段。
 

加入样品、提取物或标准溶液中的已知含量的纯分析物，用于测量其他方法分析物（同一样品或溶液的组分）的相对响应。
内标不得为非样品组分的分析物。

-

实验室质控样品

LCS

以已知浓度加标的基质。
使用与收到的 EPA 样品相同的样品制备、试剂和分析方法分析 LCS。

请参见实验室加标空白 (LRB)。

一定体积的加有已知浓度的分析物的试剂水，并采用与样品相同的制备和分析程序。
用于监测分析物损失/回收率。
LCS 可使用与校准标样相同的来源来配制，也可能与校准标样无关。
独立配制的 LCS 既可以从有证参比溶液中获得或制得，或者从有证试剂固体或与校准标样来源相关的另一批试剂固体中制得。
对于每个分析批次，至少一个 LCS 应使用与校准标样相同的来源制得。
通过这种方式，如果 LCS 和基质加标的回收率均超出可接受限值，分析人员便能够确定问题是由校准误差还是基质干扰引起的。

实验室平行样

LD1 和 LD2

请参见平行样 (DUP)。

在实验室中提取的两份等量的相同样品，并使用相同的程序分别进行分析。
LD1 和 LD2 的分析结果指示与实验室程序相关的精密度，而与样品采集、保存或储存程序无关。

请参见平行样 (DUP)。

实验室加标空白

LFB

请参见实验室质控样品 (LCS)。

一份等量的 LRB，在实验室中向该 LRB 中加入已知量的方法分析物。
LFB 的分析与样品完全相同，其目的在于确定方法是否处于受控状态以及实验室能否实现准确精密的测量。

请参见实验室质控样品 (LCS)。

实验室加标样品基质

LFM

请参见基质加标 (MS)。

一份等量的环境样品，在实验室中向该环境样品中加入已知量的方法分析物。
LFM 的分析与样品完全相同，其目的在于确定样品基质是否导致分析结果产生偏差。
必须利用另一份等量的样品测定样品基质中分析物的背景浓度，并根据背景浓度校正 LFM 中的实测值。

请参见基质加标 (MS)。

实验室试剂空白

LRB

请参见制备空白 (PB)。

一份等量的试剂水或其他空白基质，与样品采用完全相同的方法进行处理包括暴露于用于其他样品的所有玻璃器皿、设备、溶剂、试剂和内标。
LRB 用于确定方法分析物或其他干扰物质是否存在于实验室环境、试剂或装置中。

请参见方法空白。

线性动态范围

LDR

-

仪器对分析物的响应呈线性的浓度范围。

在基于单点校准的 ICP-AES 和 ICP-MS 分析中，该浓度范围高于最高浓度校准点，在最高浓度校准点之上，分析物信号与分析物浓度之间保持线性函数关系。
处于线性动态范围内的样品结果被视为有效且可报告的，因此无需稀释并重新分析样品。

定量下限

LLOQ

-

-

最低定量浓度点，或者在大多数情况下为校准曲线中的最低浓度点，其小于或等于基于规定的项目要求的所需的监管浓度。
分析对以 LLOQ 浓度水平制得的标准品或使用 LLOQ 作为最低浓度的校准标样，可以确认方法所规定的定量灵敏度。
LLOQ 回收率应处于真实值的 50% 以内，或基于特定项目数据质量目标的双方商定的其他范围内，以便验证数据报告限值。

定量下限校验样品

LLQC

-

-

确定实验室报告下限后，应根据需要分析定量下限校验样品 (LLQC)，以证明所需的检测能力。
理想情况下，将该校验样品与低浓度校准验证标准品制成相同的浓度，唯一不同之处在于 LLQC 样品完成整个制备和分析程序。
当检测到 LLQC 样品中的所有分析物均在其真实值的 ±30% 以内时，定量下限得到验证。
应使用该检查确定并确认最低定量限。

低浓度连续校正验证标准品

LLCCV

-

-

每个分析批次结束时，还应分析低浓度连续校准验证 (LLCCV) 标准品。
如果预计样品浓度较低，并且校准范围内的低浓度端的系统稳定性可疑，则可能需要更频繁地分析 LLCCV，即每 10 个样品分析一次。
此外，如果仅在分析批次结束运行时的 LLCCV 失败，则对 LLCCV 进行更频繁的分析可最大程度减少重新分析的样品数量。
LLCCV 标准品应使用与初始校准标样相同的来源制成浓度为实验室报告的既定定量下限。
LLCCV 标准品的可接受标准应为其真实值 ±30%。
如果无法在这些指定的限值内验证校准，则在确定原因并成功分析 LLCCV 标准品之前，不得继续分析包含浓度相近的受影响的分析物的样品。
可能需要重新校准仪器，或将定量下限调整为确保符合 LLCCV 分析要求的浓度。
LLCCV 标准品的分析数据应与样品分析数据一起存档。

低浓度初始校正验证标准品

LLICV

-

-

应使用与校准标样相同的来源，配制浓度为预期的定量下限低浓度初始校准验证 (LLICV) 标准品。
LLICV 的建议可接受标准应为其真实值 ±30%。
一旦满足校准可接受标准，即可使用最低浓度的校准标样或 LLICV 浓度证明定量下限，并且不应定量低于此最低浓度标准的样品结果。

基质

-

组成待分析样品的主要材料。
出于本工作说明书 (SOW) 的目的，样品基质可以为水溶液/水、土壤/沉积物或擦拭物。
基质不是相（液态或固态）的同义词。

-

包含目标分析物的组分或基底。

基质平行样

-

-

-

实验室内分发的样品，用于记录给定样品基质中方法的精密度。

基质效应

-

特定基质成分对微量元素谱线的增强或抑制作用。

-

-

基质加标

MS

使用已知量的特定化合物加标的等分试样，完成整个分析程序，通过测量回收率来证明方法对基质的适用性。

请参见实验室加标样品基质 (LFM)。

使用已知浓度的目标分析物加标的等分试样。
加标发生在样品制备和分析之前。
用于记录给定样品基质中方法的偏差。

基质加标平行样

MSD

-

-

使用相同浓度的目标分析物加标的实验室内分发样品。
加标发生在样品制备和分析之前。
用于记录给定样品基质中方法的精密度和偏差。

方法空白

-

请参见制备空白。

请参见实验室试剂空白 (LRB)。

一种不含分析物的基质，所有试剂均按照与样品处理所用的相同体积或比例加入其中。
方法空白必须完成整个样品制备程序，并且最终溶液中的酸浓度必须与用于分析的样品溶液相同。
方法空白用于记录分析过程中产生的污染。

方法检测限

MDL

目标参数的浓度，当采用完整方法处理样品时，其产生的信号有 99% 的概率不同于空白所产生的信号。
对于 7 个重复样品，平均值必须比空白高 3.14s，其中“s”是 7 个重复样品的标准偏差。

可以测定、测量和报告分析物的最低浓度，分析物浓度大于零的置信度达到 99%。

-

标准加入法

MSA

请参见标准加入。

-

当目标分析物在特定基质中的信号响应与在试剂水中的响应不同时，采用另一种校准程序。
通常保留该程序用于分析复杂基质。
标准加入技术涉及将已知量的目标分析物加入一系列重复样品的每一个等量试样中。
重复样品的最终浓度应处于方法的校准范围内。
绘制每个重复样品的分析响应与标准加入浓度的关系图。
执行线性回归后，将曲线外推至 x 轴。
原始未加标样品中的分析物浓度等于 x 轴截距的倒数。
详见方法 7000。

最佳浓度范围

-

-

-

金属分析中的某一浓度范围，如果低于此范围，应使用量程扩展，如果高于此范围时，则应考虑进行曲线校正。
该范围将随仪器灵敏度和所用的操作条件而变化。

百分比偏差

%D

两个值之差除以其中一个值并乘以 100。

-

-

回收率百分比

%R

加入回收样品中的分析物或元素的百分比。
它是加标样品中检测到的浓度与原始（未加标）样品中检测到的浓度之差除以加入加标样品中的浓度并乘以 100。

-

-

性能评估样品

PE

EPA 已知组成的样品；但其组成不为承包商所知，用于评估承包商的绩效。

-

-

消解后加标

PDS

为金属分析制备的样品，其中进行分析物加标，用于确定基质效应是否可能影响结果。
标准加入产生的方法指定最低浓度应高于方法报告限值。
在每个批次样品中分析消解后加标样品，并指定每种方法的回收率标准。

请参见分析物添加测试。

如果 MS/MSD 的回收率不合格，还应由 MS/MSD 等分试样制备相同的样品，并对其进行消解后加标。
否则，应使用通过同一制备方法制得的另一个样品作为替代品。
将分析物标准品加入一份制备好的样品或其稀释液中，并且回收率应处于已知值的 80% 至 120% 之间。
标准加入的最低浓度应为定量下限的 10 倍，且最高为定量下限的 100 倍。
如果该加标样品分析失败，则应对该样品进行稀释测试（第 9.9.2 节）。
如果 MS/MSD 和消解后加标均分析失败，则可以确认存在基质效应。

精密度

-

-

-

一组重复测量值之间的一致性，无需假设已知其真实值。
通过重复分析来估算精密度。
最常用的精密度估算值是相对标准偏差 (RSD) 或变异系数 (CV)。

制备空白

PB

不含分析物的样品，所有试剂均按照与样品处理所用的相同体积或比例加入其中。
制备空白必须完成整个样品制备和分析程序。
用于评估分析过程中产生的污染。

请参见实验室试剂空白 (LRB)。

请参见方法空白。

质控样品

QCS

-

已知浓度的方法分析物溶液，用于强化 LRB 或样品基质的等分试样。
QCS 由实验室外部来源获得，与校准标样的来源不同。用于检查实验室或仪器性能。

-

原始数据

-

来自任何测量设备（例如分析仪器、天平、移液器、温度计等）的原始记录和未经处理的测量值。

-

-

试剂水

-

这种水的纯度必须相当于规范 D1193-06“试剂水的标准规范”中规定的 ASTM II 类试剂水。

-

由任何方法制得的符合 ASTM II 类水的性能规范的水。

参比物质

-

用于验证方法和仪器性能的标准品，例如 ICV、CCV、ICS 等。

-

一种在溶液或均质化基质中包含已知量的目标分析物的材料。
用于记录分析过程的偏差。

相对百分比偏差

RPD

相对百分比偏差是基于两个值的平均值，并报告为绝对值（即，始终以正数或零来表示）。

-

-

报告的数据

-

报告的数据在原始测量值的基础上处理得到，这些原始测量值可能经过重新格式化以满足特定的报告要求，例如有效数字和小数位精密度。

-

-

样品

-

待分析的一部分材料，其容纳于一个或多个容器中，并通过唯一的样品编号进行标识。

-

-

样品交付组

SDG

样品箱中的一个单元，用于确定一组要交付的样品。  SDG 的定义如下（以最常见的定义为准）： 

• 每 20 个现场样品（不包括性能评估 (PE) 样品）容纳于一个样品箱中，或者

• 每 7 个日历天（7 天的周转时间，3 个日历天）收到样品箱中的现场样品（所述期限从收到 SDG 中的第一个样品开始）。

• 按交付成果相同水平安排的所有样品。

• 此外，所有分配到 SDG 的样品都必须安排在相同的合同周转时间内。  初步结果对于确定 SDG 没有影响。
  实验室可酌情按基质将样品分配到 SDG。实验室应采取所有必要的预防措施以满足每个 SDG 中包含 20 个样品的标准。

-

-

灵敏度

-

-

-

分析技术或仪器区分分析物浓度的细微差异的能力（参考文献 1）。
对于金属分析，通常采用以下方法确定灵敏度。
(a) 原子吸收 (AA)：产生 1% 的透射率的金属浓度（单位为 mg/L）。
(b) 石墨炉原子吸收 (GFAA)：得到 0.044 吸光度-秒的响应所需的分析物质量。
(c) 电感耦合等离子体 (ICP)：在三个非连续日对试剂空白溶液进行三次运行（每天连续测量七次），由此得出的标准偏差平均值。

系列稀释

SD

将样品稀释五倍。
经稀释倍数校正后，稀释后的样品与未经稀释的原始样品的一致性必须处于规定的限值内。
连续稀释可能会反映干扰物质的影响。

请参见稀释测试。

请参见稀释测试。

光谱干扰检测溶液

SIC

-

一种包含较高浓度的选定方法分析物的溶液，用于根据一组确定的方法标准干扰元素评估校正已知的光谱干扰的常规程序。

-

分发样品

-

-

-

从同一容器中取出并独立分析的等量样品。
如果无法获得等量样品的，应采集现场重复样品进行基质重复分析。
这些样品通常在混合或合成后采集，用于记录实验室内或实验室间精密度。

标准加入

-

-

向样品中加入已知含量的分析物，用于确定检测器对样品基质中分析物的相对响应。
然后利用相对响应评估有效的基质效应或样品分析物浓度。

在即将开始分析之前将已知含量的分析物加入样品中的做法。
通常用于评估干扰物质。

标准曲线

-

请参见校正、校正标样、初始校正。

请参见校正标样。

已知分析物标准品的浓度与仪器对分析物的响应的关系图。连续稀释标准溶液，得到仪器工作范围内的工作标准品，由此制得校准标样。  制备校准标样时，应使用与样品制备相同类型的酸或溶剂，且浓度与制得的样品浓度相同。

储备（标准）溶液

-

可通过稀释以制得其他标样的标准溶液。

包含一种或多种方法分析物的浓缩溶液，其在实验室中使用经检测的标准物质制得或购自声誉良好的商业来源。

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目标分析物列表

-

附件 C（无机目标分析物列表与合同要求的定量限）中指定的无机分析物（金属和氰化物）列表。

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-

时间

-

Hh:mm:ss：在需要记录任何交付项目的时间时，应采取军用时间（即 24 小时制 (00:00-23:59)）。

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